EVO系列鎢燈絲掃描電子顯微鏡 EVO MA 10/LS 10

 世界光學(xué)品牌，可見光學(xué)和電子光學(xué)的。其電子光學(xué)前身為LEO（里奧），更早叫Cambridge（劍橋）和ZEISS。1965年推出一臺商業(yè)化掃描電鏡；1985年推出一臺數(shù)字化掃描電鏡。EVO系列電鏡是高性能、功能強(qiáng)大的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡。MA 10用于材料領(lǐng)域,LS 10用于生命科學(xué)領(lǐng)域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級的物鏡設(shè)計，提供高低真空成像功能，可對各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界的X射線分析技術(shù)。革命性的Beamsleeve的設(shè)計，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時還可以進(jìn)行準(zhǔn)確的能譜分析。樣品臺為五軸全自動控制。標(biāo)準(zhǔn)的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護(hù))成像分析。

用途：

掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。

技術(shù)參數(shù)：

分辨率：10nm @ 3KV(SE with W)  3.0nm @ 30KV(SE and W)  4.0nm @ 30KV(VP with BSD)
加速電壓：0.2—30KV
放大倍數(shù)：7—1000000x
視野范圍：6mm
X-射線參數(shù)：8.5mm WD，35度接收角
壓力范圍：10—400Pa(LS10:10-3000Pa)
工作室：310mm(φ)×220mm(h)
5軸優(yōu)中心自動樣品臺：X=80mm Y=100mm Z=35mm T=-10-90°R=360°
試樣高度：100mm  試樣直徑：200mm
系統(tǒng)控制：基于Windows 7 的SmartSEM

主要特點：

可變壓力下操作
超大移動平臺
快速抽真空
未來的保證，可升級為水蒸氣擴(kuò)展圖像
高亮度LaB6資源選擇
光線套選擇

技術(shù)優(yōu)勢：

通過網(wǎng)絡(luò)可遠(yuǎn)程控制
可移動大平臺
通用圖像處理
改進(jìn)了低真空圖像
業(yè)界的X-射線分析技術(shù)