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氦質(zhì)譜檢漏儀光刻機檢漏
上海伯東客戶日本某生產(chǎn)半導體用光刻機公司, 光刻機真空度需要達到 1x10-11 pa 的超高真空, 因為設(shè)備整體較大, 需要對構(gòu)成光刻機的真空相關(guān)部件進行檢漏且要求清潔無油, 滿足無塵室使用要求, 為了方便進行快速檢漏, 采購伯東 Pfeiffer 便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310.
光刻機檢漏方法: 采用真空模式檢漏, 漏率值設(shè)定為 1x10-11pa m3/s.
1. 通過波紋管與光刻機真空系統(tǒng)連接
2. 使用噴槍, 噴掃管路, 腔體焊縫, 接頭等部位, 如果存在超過設(shè)定漏率值的狹縫, 檢漏儀會時時發(fā)出聲光報警, 同時在屏幕上顯示漏率值.
便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310 主要技術(shù)參數(shù)：
對氦氣的最小檢測漏率 | 真空模式 5E-13 Pa m3/s ,吸槍模式 1E-8 Pa m3/s |
檢測模式 | 真空模式和吸槍模式 |
氦質(zhì)譜檢漏儀無油前級泵抽速 | 1.7 m3/h |
檢測氣體 | 4He , 3He, H2 |
響應(yīng)時間 | <1s |
對氦氣的抽氣速度 | 1.1 l/s |
氦質(zhì)譜檢漏儀進氣法蘭 | DN 25 ISO-KF |
進氣口max壓力 | 15 hPa |
通訊接口 | RS-232 |
工作溫度 | 10-40 °C |
噪音水平 | < 45 dB (A) |
尺寸 | 350 X 245 X 141 mm |
重量 | 21 kg (46 lb) |
鑒于客戶信息保密, 若您需要進一步的了解光刻機檢漏, 請聯(lián)絡(luò)上海伯東鄧女士，分機134
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