設備用途：

　　該機主要適用于超高精密零部件的雙面研磨拋光，光學晶體材料、硅片、砷化鎵片、刀片、金屬件、石英及其他硬脆材料等高平面度、高平行度要求的雙面高精度研磨拋光。

　　設備原理：

　　1、本系列研磨機為超高精密研磨設備，上、下研磨盤作相反方向轉動，工件在載體內作既公轉又自轉的游星運動。磨削阻力小不損傷工件，而且兩面均勻磨削生產效率高。

　　2、本系列研磨機修整機構采用油壓懸浮導軌前后往復運動,金剛石修面刀給研磨盤的研磨面進行平面修整。

　　設備特點：

　　1、本系列研磨機的上、下研磨盤可進行自動修盤。

　　2、采用四個電機同步驅動，變速范圍更廣，動動精度更高，響應速度更快，能適應不同研磨材料用研磨工藝的要求，實現了軟啟動、軟停止，調速穩定，沖擊小。

　　3、控制系統中采用CNC、彩色終端等*技術，系統的響應速度更快、更精確，并具有遠程監控，遠程維護功能。

　　4、本系列研磨機有光柵厚度控制系統，加工后的產品厚度公差可控制在±0.002mm，平行度0.002mm、平面度0.001mm范圍內。

　　設備規格：