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SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機概述：兆聲和清洗技術的發(fā)展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版...

SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術的發(fā)展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版...

SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機：兆聲和清洗技術的發(fā)展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。NAN...

LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術的發(fā)展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩...

LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術的發(fā)展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和...

NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統(tǒng)產品概述：該系統(tǒng)為全自動上下載片，并且通過計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結構緊湊...

NPC-4000（M）等離子去膠機（刻蝕機）概述：NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻...

NIE-3000離子束清洗系統(tǒng)產品概述：該系統(tǒng)為手動放片取片，但通過計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊...

NPC-3500（M）等離子去膠機(刻蝕機)概述：NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻...