半導體材料的研發與應用是各領域關注的焦點。其中，硅基氮化鎵（Gallium Nitride）外延片作為一種新型高性能半導體材料，其應用場景日益拓展，引起了業界的關注。蘇州恒邁瑞公司為客戶生產定制4英寸至8英寸GaN-on-Si硅基氮化鎵外延片。硅基氮化鎵外延片具有諸多優勢。以AlGaN/GaN-on-Si為例，這種氮化鎵外延片采用金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）技術，在硅襯底上生長高質量、高穩定性的氮化鎵薄膜。該工藝不僅降低了生產成本，還實現了大規模生產線的應用，為實現高頻、高效、高溫等苛刻條件下的電子設備提供了可能。隨著5G通信、新能源汽車、人工智能等領域對高性能功率器件的需求不斷增長，硅基氮化鎵外延片作為關鍵性基礎材料的地位逐漸凸顯。硅基氮化鎵外延片制造行業在未來有著發展潛力和空間。相關企業和研究機構應加強技術創新、提高產品質量，并積極應對市場變化，共同推動整個產業鏈的協同發展